品名 | 无氧铜 | 牌号 | T1 |
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杂质含量 | 0.001% | 硬度 | 37HV |
铜含量≥ | 99.999 | 纯度 | 99.999 |
粒度 | 2*5mm | 包装 | 真空 |
铜,高纯铜靶,用于真空镀膜、电真空材料、合金添加剂,产品带有红色光泽的金属颗粒,密度大,化学性质稳定,高纯度,有很好的质量,更能使产品发挥更好的性能。在高科技现代工业中有不可缺少的原料。
高纯溅射靶材(规格按要求定做 纯度3-6N)
高纯金属溅射靶材
铝靶Al、铬靶Cr、铜靶Cu、铁靶Fe、锌靶Zn、锡靶Sn、镁靶Mg、钴靶Co、镍靶Ni、钛靶Ti、金靶Au、银靶Ag、铂靶Pt、铼靶Re、钌靶Ru、钯靶Pd、铑靶Rh、铱靶Ir、铟靶In、钒靶V、镉靶Cd、钨靶W、钼靶Mo、钽靶Ta、铌靶Nb、锆靶Zr、铪靶Hf、锗靶Ge、硅靶Si、锰靶Mn、铋靶Bi、硒靶Se、硼靶B、钙靶Ca